曝光是利用感光鼓在暗处时电阻大，成绝缘体;在明处时电阻小，成导体的特性，对已充是的感光鼓用光像进行曝光，使用权光照区(原稿的反光产分)表面电荷因放电而消失;无光照的区域(原稿的线条和墨迹部分)电荷依保持，从而在感光鼓上形成表面电位随图像明暗变而起伏的静电潜像的过程。进行曝光时，原稿图像经光照射后，图像光信号经光学成像系统投射到感光鼓表面，光导层受光照射的部分称为'明区'，而没有受光照射的部分自然数'暗区'。
表面覆有光导材料的底基多数为圆形，称为光导鼓，也有些是平面的或环形带形式的。以等倍复印时，原稿的扫描速度与光导体线速度相同。光导材料在暗处具有高电阻，当它经过充电电极时，空气被电极的高压电所电离，自由离子在电场的作用下快速均匀地沉积在膜层的表面上，使之带有均匀的静电荷。光导体接受从原稿系统来的光线曝光时，它的电阻率迅速降低，表面电荷随光线的强弱程度而消失或部分消失，使膜层上形成静电潜像。经过显影后，静电潜像即成为可见像。
卡尔逊静电复印法的感光鼓一般是两层结构，即光电导层和导电基本。而np法的感光鼓则是由透明的绝缘层、光导层和导电基本三层构成。np法静电复印的过程除了静潜像的形成和显影过程外，基它都与卡尔逊法静电复印过程基本相同。np法静电潜像的形成包括前消电/前曝光、一次充电、二次充电/图像曝光和全mian曝光4个基本步骤。
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